
前驅物(Precursors)是指在化學反應或製程中用來生成另一種物質的化學物質。在許多CVD和ALD鍍膜製程中,前驅物扮演著關鍵角色。在半導體製程中可以分為下列幾種應用:
- High k :如AlO、HfO、LaO、ZrO等的前驅物。
- Epitaxial:如GaN、InGaAs、SiN等的前驅物。
- Interconnect barrier:如TaN、TiN等前驅物。
- Low k bulk dielectric:以Silane類的特氣為主。
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