奈米印刷設備

設備亮點
NanoPrint™ Nano系列機型專注於高效氧化物薄膜沉積，操作簡便，可實現傳統原子層沉積（ALD）100倍的沉積速率 。

• 設計簡潔：Nano系列設備設計緊湊，佔地面積小，可安裝於通風櫥和實驗室工作台，適用於科研及研發機構 。
• 高品質鍍膜：致力於高精度薄膜沉積，所製備膜層性能優異，在均勻性與致密性方面已達到傳統 ALD 水準，面內厚度變化小於 5% 。
• 非真空環境：設備可在大氣環境運行，大幅降低運行成本 。
• ALD 速度 100x：鍍膜速率相比傳統 ALD 工藝提升高達 100 倍，顯著提升材料研發效率、縮短原型開發週期 。

產品範例

• 基板尺寸範圍：2英吋、4英吋、12英吋 。
• 適用基板：平面/柔性基材，例如：玻璃、矽晶圓、PET 等 。
• 材料庫：Al₂O₃, ZnO, SnO₂, SiO₂, In₂O₃, AZO, ITO, WO₃, TiO₂, HfO₂
• 薄膜均勻性：< 5% 厚度差 。
• 沉積速率：10nm/min（可支持卷對卷沉積） 。

設備

參數項目	NanoCompact 50 (小型科研設備 )	NanoCompact 100 (中型 R&D 設備 )	NanoAdvanced 300 (大型工業設備 )
用途說明	實驗室系統，適用於學校及研究院所的實驗室環境 。	多功能研發系統，旨在支持創新研發、快速測試及產學研協作 。	模組化中試產線系統，專用於工藝驗證及規模放大轉化 。
設備尺寸	850 x 850 x 900 mm	1000 x 1200 x 1800 mm	1450 x 3400 x 1850 mm
控制方式	手動	半自動	自動
沉積面積	50 x 50 mm	100 x 100 mm	300 x 300 mm
沉積溫度	25 - 350 ℃	25 - 350 ℃	25 - 350 ℃
沉積環境	大氣環境	大氣環境	惰性氣體環境

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